森烁科技_SIO2二氧化硅层硅片价格优惠，氧化硅片氧化层SIO2二氧化硅层硅片制造公司

森烁科技近年来花费大笔资金，用于提升公司产品的生产技术，目的在于使公司的SIO2二氧化硅层硅片能够与用户的需求地结合。我司在2010-08-02成立，领导人在电子材料零部件结构件从事多年，有着非凡的眼光和丰富的市场经验。通过与不同的用户接触充分地了解顾客所需要的产品应当具备何种性能，以及市场上目前产品所存在的缺陷。结合着顾客反馈的意见以及市场调查的结果我司对SIO2二氧化硅层硅片进行升级，目前SIO2二氧化硅层硅片在全国销量异常火爆，产品几度供不应求。

二氧化硅片是指在硅片表面热生长一层均匀的介质薄膜，用作绝缘、或者掩模材料。氧化工艺包括高温干氧氧化、高温湿氧氧化。公司采用进口氧化设备、工艺实现氧化层均匀、准确的生成。森烁科技致力于为客户提供各种硅片解决方案，针对客户不同需求提供定制化服务，在重视客户满意度及质量服务至上，持续提升本公司经营绩效，不断改善创新，专注于半导体行业研发领域，研发创新科学技术，取得技术与品质皆优的产品。为客户提供可定制高质量半导体氧化硅片Sio2氧化层硅片，其高质量品质获客户一致好评，回购率高且销售国内外各地，其参数规格如下：
外形尺寸：2-12英寸
型号：N/P型，本征（不掺杂）
直径：50-300mm
总厚度：250-600um
氧化层厚度：50nm-2000nm(常规100nm,200nm,300nm,500nm,1000nm)
平整度（TIR)＜3um
翘曲度（BOW）：≤15um
TTV:≤15um,30um
粗糙度：＜0.5nm
电阻率：0.001-20000（Ω.cm)
晶向：100/110/111
级别：IC级
表面处理：单抛，双抛，研磨
外形尺寸，型号，总厚度，氧化层厚度，电阻率，表面处理等均可定制

公司优化生产运作过程，实现效率和效益的结合，通过自身积累，现已拥有一批高素质的管理人才和技术人才，形成了一套科学的管理制度。我公司供应的SIO2二氧化硅层硅片，站在用户角度，考量用户需求，提供在线支付;银行转账的付款方式。同时产品能够在双方协商的时间内发货，使产品在同行业中有着较高的发货效率，在客户群中建立了良好的信誉。

森烁科技实力雄厚，重信用、守合同、保证SIO2二氧化硅层硅片质量，不断提升自身的技术水平，为客户提供的服务，赢得了广大半导体行业的信任。森烁科技始终坚持为客户创造长期价值和挖掘潜在增长为目标，要求全体员工牢记“主动服务，客户期待”的服务原则，强调职业道德，提供好的SIO2二氧化硅层硅片及服务。

东莞市森烁科技有限公司主张人尽其才，才尽其用，员工各尽所能，实现与企业共同发展。公司坚持以信誉为主，坚守细水长流、稳定发展的经营宗旨，以事业留人、感情留人、文化留人、永续关怀为人才管理战略。确立美好愿景，致力于打造电子材料零部件结构件行业内成功的SIO2二氧化硅层硅片供应企业。本公司坚信半导体行业是公司发展的源泉，立足客户，坚持以市场为导向，以完善的售后服务为承诺。