广东表面颗粒度单抛单晶硅片加工

2022-03-31  来自: 东莞市森烁科技有限公司 浏览次数:104

东莞市森烁科技有限公司关于广东表面颗粒度单抛单晶硅片加工的介绍,单面抛光硅片在第二次抛光中,由于水合膜表面的光泽比较明显,所以要尽量避免用磨粒和透气性能好、平滑且不易损坏的硅片来抛光。单面抛光硅片进行抛光的时候还需考虑硅块的表面光洁度,这样做的好处是可以避免硅片表面光洁度较低,而且硅片表面光洁度不会损坏硅片的质量。由于单面抛光硅片的表面光滑度和耐冲击特点较差,因此单面抛光硅片在制造上应采用高强度、低密封性的磨粒。单面抛光硅片在制造上需要具有很高的透气性和良好的透湿性,因为这种材料具有良好的抗冲击特点,所以要求其表层水合膜厚度不能小于2mm。


单面抛光硅片的抛光布的特点是,不需要任何磨粒或透气性能好的抛光布。由于单面抛光硅片表面的水合膜具有较高的透气性,所以其表面水合膜比普通水合膜更薄。单面抛光硅片使用时,需要选择适当的磨粒和透气性能好、平滑且不易损坏的硅片。在这个过程中,要选择一些高透气性能的硅片,也要考虑单面抛光硅片的表面光洁度和平滑性。单面抛光硅片在第一次抛光中,借助于磨粒与抛光布的机械作用,破坏硅片表面的水合膜进行抛光。因此,需要采用大粒度的磨粒和透气性能好的抛光布以形成较薄的水合膜,其目的是为获得硅片的厚度、平面度等。


广东表面颗粒度单抛单晶硅片加工


广东表面颗粒度单抛单晶硅片加工,单面抛光硅片在第二次抛光中破坏硅片表层水合膜后,因为其表层水分散失殆尽而无法形成抛光布。在这次抛光中,硅片表层水合膜的表面水合膜厚度为10mm。在第三次抛光中,由于其表层水合膜厚度较薄而无法形成抛光布,因此采用小颗粒磨粒和透气性能好的抛光布以形成抛光布。在第二次抛光中,由于抛光布的水合膜表面与单面抛光硅片表面的水合膜厚度不一样,因此,应采用较薄的磨粒和透气性能好的抛光布进行抛光,这样做不仅能使硅片具有良好的透射力而且也可以降低硅片表面对水合膜表面反射出来水分子量。


新款单面抛光硅片厂家,单面抛光硅片由于其表层的厚度、光泽和耐磨性都比较高,因而具有很高的耐磨性和防锈性。由于这种硅片表层厚度小、透气率低、耐老化,因此,在第一次抛光中可以使用。由于单面抛光硅片是一种高透气性的透明材料,因而对水合膜的表面光洁度要求较高。在第二次抛光中,由于水合膜的表面光洁度较高,使得硅片的表面光泽更为突出。这时,就需要采用大粒度的磨粒和透气性能好、平滑且不易损坏的抛光布来完成第二次抛光。单面抛光硅片在第二次抛光中,采用大粒度的磨粒与透气性能好的抛光布,其目的是获得硅片厚度、平面度等。因此,在第三次抛光时采用大颗粒的磨粒与透气性能好的抛光布进行抛光。

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