湖南4英寸高纯度本征区熔单晶硅片晶片加工

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在清洗剂中，对本征区熔高阻硅片表面的氧化物进行消毒处理可以达到防止其二次吸附、保护膜和表面光洁度的效果。本征区熔高阻硅片与氧化物的消毒方法相同，但是其高阻硅片中含有大量的氧化氢。在不同的清洗剂中，本征区熔高阻硅片表面的活性物质能够与其它材料相互吸附，这些活性物质能有效地降低了对外延和扩散工序的污染。本征区熔高阻硅片的表面的活性物质能够通过与其它材料相互吸附来实现高速运动和稳定性，在上采用高性能的电子元器件，并通过加工处理，使其在不破坏表面光泽度和表面硬度的前提下，达到本征区熔高阻硅片的耐热性、耐化学腐蚀、耐热强度、耐磨损等特点。

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